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管理番号 SB0223 お問い合わせはこちら
製　品 N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ
メーカー
型　番 KZA1S-1565C 年 式 不明
価　格 お問合せ 参　考 -
仕　様










 








備　考
 
ジャンル [01.ｸﾛﾏﾄ(LC,GC,MS,TOF)] [01-8.MS関係ｱｸｾｻﾘ]　該当：30件
※詳細情報を見る場合は＜製品名＞または＜型番＞をクリックしてください。
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窒素ｶﾞｽ発生器

ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ

ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-

LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)

N2/Zero　Air発生装置(60hz)

窒素発生装置　(50Hz)

窒素発生装置　(50Hz用)

N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ
▲ 管理番号 SB0278 SB0267 SB0264 SB0253 SB0244 SB0239 SB0227 SB0225 SB0224 SB0223
△ 製 品 名 窒素ｶﾞｽ発生器 ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ ﾅﾉｽﾌﾟﾚ- LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ 窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式) N2/Zero　Air発生装置(60hz) 窒素発生装置　(50Hz) 窒素発生装置　(50Hz用) N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ
△ 型    番 N2ｽ-ﾊﾟ-20E Cohesive TLX-2(高圧対応ﾎﾟﾝﾌﾟ+CTCPALｻﾝﾌﾟﾗ) Easy Flex ﾅﾉｽﾌﾟﾚｨ- TDSｵ-ﾄ SUPPUER-12E-SDA(AB ｻｲｴﾂｸｽ用) ﾀｲﾌﾟ-2 Supplier12ES PNG-07 KZA1S-1565C
△ メーカー ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-(AFFINITI Analytical) ｻ-ﾓﾌｨｼｬ- AB　Sciex ｹﾞｽﾃﾙ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ KAKEN(AB SCIEX) ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ (株)ｴｱﾃｯｸ ---
価  格 お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ
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ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-

HPLC(LC/MS前処理用)

HPLC (LC/MS用前処理用)

臭い嗅ぎ装置

ｲｵﾝ源　DART

ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ

吸気ﾏｳｽ質量分析装置

窒素発生装置

加熱脱着装置付

LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ
▲ 管理番号 SB0220 SB0218 SB0217 SB0216 SB0215 SB0213 SB0211 SB0194 SB0181 SB0112
△ 製 品 名 ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ- HPLC(LC/MS前処理用) HPLC (LC/MS用前処理用) 臭い嗅ぎ装置 ｲｵﾝ源　DART ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ 吸気ﾏｳｽ質量分析装置 窒素発生装置 加熱脱着装置付 LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ
△ 型    番 IDF1E-10 2790 2795 ODP2 SVP-100/TLC-MS用 AQUA　PT-5000J WRMS-2000 AT-10NP-CSH JTD-505Ⅲ PhotoSpray　Ion　Source
△ メーカー SMC waters Waters ｹﾞｽﾃﾙ ionSense GLｻｲｴﾝｽ ｳｴｽﾄﾛﾝ ｴｱ-ﾃｯｸ 日本分析工業 AB Sciex
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加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ

nano-LCｼｽﾃﾑ

LC/MS用HPLC

ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)

窒素発生装置
▲ 管理番号 SB0046 SA0050 CR0068 027993 027991 027359 026303 024863 020065 017177
△ 製 品 名 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ nano-LCｼｽﾃﾑ LC/MS用HPLC ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用) 窒素発生装置
△ 型    番 GERSTEL　TDS αHERACLES NGS-40 AT-20NP-60CSL AT-20NP-60CSL PHD2000 Nsno-LC-ULTRA　1Dplus+AS付 LC-20ADxrｼﾘ-ｽﾞ NRVP-Box-GWT SLP-221CD-S4+ｽ-ﾊﾟ-12E
△ メーカー Agilent ALPHA　MOS 十慈ﾌｨ-ﾙﾄﾞ ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ HARVARD ABSciex 島津製作所 MS　Noise ｱ-ﾈｽﾄ岩田+ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ
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