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管理番号 SB0181 お問い合わせはこちら
製　品 加熱脱着装置付
メーカー 日本分析工業
型　番 JTD-505Ⅲ 年 式 不明
価　格 お問合せ 参　考 5,400,000
仕　様 ﾃﾞﾊﾞｲｽ部　PAT加熱脱着部:0～350℃(LN2に依る冷却)
　　　　　ﾄﾗﾝｽﾌｧ-ﾗｲﾝ:室温+10～300度
　　　　　SAT加熱脱着部:ｷｭ-ﾘ-ﾎﾟｲﾝﾄ加熱方式(標準280℃)
　　　　　SAT冷却:-100～室温(LN2)
　　　　　SATｵ-ﾌﾞﾝ:室温+10～230℃
　　　　　ﾆ-ﾄﾞﾙ部:室温+10～300℃
　　　　　外寸/重量:255x105x210h/3kg
ﾛ-ﾀﾞ-部:　PATﾗｯｸ:装着本数最大15本+1本(ﾎ-ﾑﾎﾟｼﾞｼｮﾝ設定用)
 

加熱脱着装置:JTD-505Ⅲ　　日本分析工業製
　LN2ｼﾞｭｱ-瓶:50L　　2個　ｻｲﾎﾝ式
備　考
  点検整備済み　御希望に依り別途有償据付を行います
ジャンル [01.ｸﾛﾏﾄ(LC,GC,MS,TOF)] [01-8.MS関係ｱｸｾｻﾘ]　該当：30件
※詳細情報を見る場合は＜製品名＞または＜型番＞をクリックしてください。
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ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ

ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ

ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-

ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ

ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ

ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)

ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-

ｲｵﾝ源　DART

臭い嗅ぎ装置

窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)
△ 管理番号 SA0050 SB0213 SB0264 027359 SB0267 020065 SB0220 SB0215 SB0216 SB0239
▲ 製 品 名 ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ ﾅﾉｽﾌﾟﾚ- ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用) ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ- ｲｵﾝ源　DART 臭い嗅ぎ装置 窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)
△ 型    番 αHERACLES AQUA　PT-5000J Easy Flex PHD2000 Cohesive TLX-2(高圧対応ﾎﾟﾝﾌﾟ+CTCPALｻﾝﾌﾟﾗ) NRVP-Box-GWT IDF1E-10 SVP-100/TLC-MS用 ODP2 SUPPUER-12E-SDA(AB ｻｲｴﾂｸｽ用)
△ メーカー ALPHA　MOS GLｻｲｴﾝｽ ｻ-ﾓﾌｨｼｬ- HARVARD ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-(AFFINITI Analytical) MS　Noise SMC ionSense ｹﾞｽﾃﾙ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ
価  格 お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ
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窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生器

窒素発生装置　(50Hz用)

窒素発生装置　(50Hz)

窒素発生装置

窒素発生装置

吸気ﾏｳｽ質量分析装置

加熱脱着装置付
△ 管理番号 027993 027991 CR0068 SB0278 SB0224 SB0225 SB0194 017177 SB0211 SB0181
▲ 製 品 名 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生器 窒素発生装置　(50Hz用) 窒素発生装置　(50Hz) 窒素発生装置 窒素発生装置 吸気ﾏｳｽ質量分析装置 加熱脱着装置付
△ 型    番 AT-20NP-60CSL AT-20NP-60CSL NGS-40 N2ｽ-ﾊﾟ-20E PNG-07 Supplier12ES AT-10NP-CSH SLP-221CD-S4+ｽ-ﾊﾟ-12E WRMS-2000 JTD-505Ⅲ
△ メーカー ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ 十慈ﾌｨ-ﾙﾄﾞ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ (株)ｴｱﾃｯｸ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｴｱ-ﾃｯｸ ｱ-ﾈｽﾄ岩田+ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｳｴｽﾄﾛﾝ 日本分析工業
価  格 お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ お問合せ
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加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

nano-LCｼｽﾃﾑ

N2/Zero　Air発生装置(60hz)

N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ

LC/MS用HPLC

LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ

LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ

HPLC(LC/MS前処理用)

HPLC (LC/MS用前処理用)
△ 管理番号 SB0046 SB0244 026303 SB0227 SB0223 024863 SB0253 SB0112 SB0218 SB0217
▲ 製 品 名 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ nano-LCｼｽﾃﾑ N2/Zero　Air発生装置(60hz) N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ LC/MS用HPLC LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ HPLC(LC/MS前処理用) HPLC (LC/MS用前処理用)
△ 型    番 GERSTEL　TDS TDSｵ-ﾄ Nsno-LC-ULTRA　1Dplus+AS付 ﾀｲﾌﾟ-2 KZA1S-1565C LC-20ADxrｼﾘ-ｽﾞ ﾅﾉｽﾌﾟﾚｨ- PhotoSpray　Ion　Source 2790 2795
△ メーカー Agilent ｹﾞｽﾃﾙ ABSciex KAKEN(AB SCIEX) --- 島津製作所 AB　Sciex AB Sciex waters Waters
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