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製　品 N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ
メーカー
型　番 KZA1S-1565C 年 式 不明
価　格 お問合せ 参　考 -
仕　様










 








備　考
 
ジャンル [01.ｸﾛﾏﾄ(LC,GC,MS,TOF)] [01-8.MS関係ｱｸｾｻﾘ]　該当：30件
※詳細情報を見る場合は＜製品名＞または＜型番＞をクリックしてください。
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Photo

窒素発生装置　(50Hz用)

LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ

nano-LCｼｽﾃﾑ

LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ

ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ

ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ

N2/Zero　Air発生装置(60hz)

ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)
△ 管理番号 SB0224 SB0112 026303 SB0253 SA0050 SB0046 SB0213 027359 SB0227 020065
△ 製 品 名 窒素発生装置　(50Hz用) LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ nano-LCｼｽﾃﾑ LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ N2/Zero　Air発生装置(60hz) ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)
△ 型    番 PNG-07 PhotoSpray　Ion　Source Nsno-LC-ULTRA　1Dplus+AS付 ﾅﾉｽﾌﾟﾚｨ- αHERACLES GERSTEL　TDS AQUA　PT-5000J PHD2000 ﾀｲﾌﾟ-2 NRVP-Box-GWT
▼ メーカー (株)ｴｱﾃｯｸ AB Sciex ABSciex AB　Sciex ALPHA　MOS Agilent GLｻｲｴﾝｽ HARVARD KAKEN(AB SCIEX) MS　Noise
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Photo

ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-

HPLC (LC/MS用前処理用)

ｲｵﾝ源　DART

HPLC(LC/MS前処理用)

窒素ｶﾞｽ発生装置

LC/MS用HPLC

加熱脱着装置付

窒素発生装置

吸気ﾏｳｽ質量分析装置

窒素発生装置
△ 管理番号 SB0220 SB0217 SB0215 SB0218 CR0068 024863 SB0181 017177 SB0211 SB0194
△ 製 品 名 ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ- HPLC (LC/MS用前処理用) ｲｵﾝ源　DART HPLC(LC/MS前処理用) 窒素ｶﾞｽ発生装置 LC/MS用HPLC 加熱脱着装置付 窒素発生装置 吸気ﾏｳｽ質量分析装置 窒素発生装置
△ 型    番 IDF1E-10 2795 SVP-100/TLC-MS用 2790 NGS-40 LC-20ADxrｼﾘ-ｽﾞ JTD-505Ⅲ SLP-221CD-S4+ｽ-ﾊﾟ-12E WRMS-2000 AT-10NP-CSH
▼ メーカー SMC Waters ionSense waters 十慈ﾌｨ-ﾙﾄﾞ 島津製作所 日本分析工業 ｱ-ﾈｽﾄ岩田+ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｳｴｽﾄﾛﾝ ｴｱ-ﾃｯｸ
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窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

臭い嗅ぎ装置

ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-

ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ

窒素発生装置　(50Hz)

窒素ｶﾞｽ発生器

窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)

N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ
△ 管理番号 027991 027993 SB0244 SB0216 SB0264 SB0267 SB0225 SB0278 SB0239 SB0223
△ 製 品 名 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ 臭い嗅ぎ装置 ﾅﾉｽﾌﾟﾚ- ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ 窒素発生装置　(50Hz) 窒素ｶﾞｽ発生器 窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式) N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ
△ 型    番 AT-20NP-60CSL AT-20NP-60CSL TDSｵ-ﾄ ODP2 Easy Flex Cohesive TLX-2(高圧対応ﾎﾟﾝﾌﾟ+CTCPALｻﾝﾌﾟﾗ) Supplier12ES N2ｽ-ﾊﾟ-20E SUPPUER-12E-SDA(AB ｻｲｴﾂｸｽ用) KZA1S-1565C
▼ メーカー ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ ｹﾞｽﾃﾙ ｹﾞｽﾃﾙ ｻ-ﾓﾌｨｼｬ- ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-(AFFINITI Analytical) ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ---
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