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管理番号 027991 お問い合わせはこちら
製　品 窒素ｶﾞｽ発生装置
メーカー ｴｱ-ﾃｯｸ
型　番 AT-20NP-60CSL 年 式 2021年 月
価　格 お問合せ 参　考 -
仕　様










 








備　考
 
ジャンル [01.ｸﾛﾏﾄ(LC,GC,MS,TOF)] [01-8.MS関係ｱｸｾｻﾘ]　該当：30件
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N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ

窒素発生装置　(50Hz)

窒素ｶﾞｽ発生器

窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)

ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ

ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

臭い嗅ぎ装置

窒素発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置
△ 管理番号 SB0223 SB0225 SB0278 SB0239 SB0267 SB0264 SB0244 SB0216 SB0194 027991
△ 製 品 名 N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ 窒素発生装置　(50Hz) 窒素ｶﾞｽ発生器 窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式) ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ ﾅﾉｽﾌﾟﾚ- 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ 臭い嗅ぎ装置 窒素発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置
△ 型    番 KZA1S-1565C Supplier12ES N2ｽ-ﾊﾟ-20E SUPPUER-12E-SDA(AB ｻｲｴﾂｸｽ用) Cohesive TLX-2(高圧対応ﾎﾟﾝﾌﾟ+CTCPALｻﾝﾌﾟﾗ) Easy Flex TDSｵ-ﾄ ODP2 AT-10NP-CSH AT-20NP-60CSL
▲ メーカー --- ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-(AFFINITI Analytical) ｻ-ﾓﾌｨｼｬ- ｹﾞｽﾃﾙ ｹﾞｽﾃﾙ ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ
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窒素ｶﾞｽ発生装置

吸気ﾏｳｽ質量分析装置

窒素発生装置

加熱脱着装置付

LC/MS用HPLC

窒素ｶﾞｽ発生装置

HPLC(LC/MS前処理用)

ｲｵﾝ源　DART

HPLC (LC/MS用前処理用)

ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-
△ 管理番号 027993 SB0211 017177 SB0181 024863 CR0068 SB0218 SB0215 SB0217 SB0220
△ 製 品 名 窒素ｶﾞｽ発生装置 吸気ﾏｳｽ質量分析装置 窒素発生装置 加熱脱着装置付 LC/MS用HPLC 窒素ｶﾞｽ発生装置 HPLC(LC/MS前処理用) ｲｵﾝ源　DART HPLC (LC/MS用前処理用) ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-
△ 型    番 AT-20NP-60CSL WRMS-2000 SLP-221CD-S4+ｽ-ﾊﾟ-12E JTD-505Ⅲ LC-20ADxrｼﾘ-ｽﾞ NGS-40 2790 SVP-100/TLC-MS用 2795 IDF1E-10
▲ メーカー ｴｱ-ﾃｯｸ ｳｴｽﾄﾛﾝ ｱ-ﾈｽﾄ岩田+ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ 日本分析工業 島津製作所 十慈ﾌｨ-ﾙﾄﾞ waters ionSense Waters SMC
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ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)

N2/Zero　Air発生装置(60hz)

ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ

ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ

LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ

nano-LCｼｽﾃﾑ

LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ

窒素発生装置　(50Hz用)
△ 管理番号 020065 SB0227 027359 SB0213 SB0046 SA0050 SB0253 026303 SB0112 SB0224
△ 製 品 名 ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用) N2/Zero　Air発生装置(60hz) ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ nano-LCｼｽﾃﾑ LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ 窒素発生装置　(50Hz用)
△ 型    番 NRVP-Box-GWT ﾀｲﾌﾟ-2 PHD2000 AQUA　PT-5000J GERSTEL　TDS αHERACLES ﾅﾉｽﾌﾟﾚｨ- Nsno-LC-ULTRA　1Dplus+AS付 PhotoSpray　Ion　Source PNG-07
▲ メーカー MS　Noise KAKEN(AB SCIEX) HARVARD GLｻｲｴﾝｽ Agilent ALPHA　MOS AB　Sciex ABSciex AB Sciex (株)ｴｱﾃｯｸ
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