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製　品 LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ
メーカー AB Sciex
型　番 PhotoSpray　Ion　Source 年 式 不明
価　格 お問合せ 参　考 -
仕　様










  本体　　　　PhotoSpray　Ion　Source
ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ　77Plus　　HARVARD製
備　考
 
ジャンル [01.ｸﾛﾏﾄ(LC,GC,MS,TOF)] [01-8.MS関係ｱｸｾｻﾘ]　該当：30件
※詳細情報を見る場合は＜製品名＞または＜型番＞をクリックしてください。
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Photo

HPLC (LC/MS用前処理用)

HPLC(LC/MS前処理用)

LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ

LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ

LC/MS用HPLC

N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ

N2/Zero　Air発生装置(60hz)

nano-LCｼｽﾃﾑ

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ
△ 管理番号 SB0217 SB0218 SB0112 SB0253 024863 SB0223 SB0227 026303 SB0046 SB0244
▼ 製 品 名 HPLC (LC/MS用前処理用) HPLC(LC/MS前処理用) LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ LC/MS用HPLC N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ N2/Zero　Air発生装置(60hz) nano-LCｼｽﾃﾑ 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ
△ 型    番 2795 2790 PhotoSpray　Ion　Source ﾅﾉｽﾌﾟﾚｨ- LC-20ADxrｼﾘ-ｽﾞ KZA1S-1565C ﾀｲﾌﾟ-2 Nsno-LC-ULTRA　1Dplus+AS付 GERSTEL　TDS TDSｵ-ﾄ
△ メーカー Waters waters AB Sciex AB　Sciex 島津製作所 --- KAKEN(AB SCIEX) ABSciex Agilent ｹﾞｽﾃﾙ
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加熱脱着装置付

吸気ﾏｳｽ質量分析装置

窒素発生装置

窒素発生装置

窒素発生装置　(50Hz)

窒素発生装置　(50Hz用)

窒素ｶﾞｽ発生器

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置
△ 管理番号 SB0181 SB0211 SB0194 017177 SB0225 SB0224 SB0278 027993 027991 CR0068
▼ 製 品 名 加熱脱着装置付 吸気ﾏｳｽ質量分析装置 窒素発生装置 窒素発生装置 窒素発生装置　(50Hz) 窒素発生装置　(50Hz用) 窒素ｶﾞｽ発生器 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置
△ 型    番 JTD-505Ⅲ WRMS-2000 AT-10NP-CSH SLP-221CD-S4+ｽ-ﾊﾟ-12E Supplier12ES PNG-07 N2ｽ-ﾊﾟ-20E AT-20NP-60CSL AT-20NP-60CSL NGS-40
△ メーカー 日本分析工業 ｳｴｽﾄﾛﾝ ｴｱ-ﾃｯｸ ｱ-ﾈｽﾄ岩田+ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ (株)ｴｱﾃｯｸ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ 十慈ﾌｨ-ﾙﾄﾞ
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窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)

臭い嗅ぎ装置

ｲｵﾝ源　DART

ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-

ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)

ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ

ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ

ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-

ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ

ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ
△ 管理番号 SB0239 SB0216 SB0215 SB0220 020065 SB0267 027359 SB0264 SB0213 SA0050
▼ 製 品 名 窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式) 臭い嗅ぎ装置 ｲｵﾝ源　DART ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ- ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用) ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ ﾅﾉｽﾌﾟﾚ- ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ
△ 型    番 SUPPUER-12E-SDA(AB ｻｲｴﾂｸｽ用) ODP2 SVP-100/TLC-MS用 IDF1E-10 NRVP-Box-GWT Cohesive TLX-2(高圧対応ﾎﾟﾝﾌﾟ+CTCPALｻﾝﾌﾟﾗ) PHD2000 Easy Flex AQUA　PT-5000J αHERACLES
△ メーカー ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｹﾞｽﾃﾙ ionSense SMC MS　Noise ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-(AFFINITI Analytical) HARVARD ｻ-ﾓﾌｨｼｬ- GLｻｲｴﾝｽ ALPHA　MOS
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