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製　品 LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ
メーカー AB Sciex
型　番 PhotoSpray　Ion　Source 年 式 不明
価　格 お問合せ 参　考 -
仕　様










  本体　　　　PhotoSpray　Ion　Source
ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ　77Plus　　HARVARD製
備　考
 
ジャンル [01.ｸﾛﾏﾄ(LC,GC,MS,TOF)] [01-8.MS関係ｱｸｾｻﾘ]　該当：30件
※詳細情報を見る場合は＜製品名＞または＜型番＞をクリックしてください。
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Photo

HPLC(LC/MS前処理用)

HPLC (LC/MS用前処理用)

ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ

窒素発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ

ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-
△ 管理番号 SB0218 SB0217 SB0213 SB0194 027993 027991 SB0267 SB0264 SB0046 SB0220
△ 製 品 名 HPLC(LC/MS前処理用) HPLC (LC/MS用前処理用) ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ 窒素発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ ﾅﾉｽﾌﾟﾚ- 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-
▼ 型    番 2790 2795 AQUA　PT-5000J AT-10NP-CSH AT-20NP-60CSL AT-20NP-60CSL Cohesive TLX-2(高圧対応ﾎﾟﾝﾌﾟ+CTCPALｻﾝﾌﾟﾗ) Easy Flex GERSTEL　TDS IDF1E-10
△ メーカー waters Waters GLｻｲｴﾝｽ ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-(AFFINITI Analytical) ｻ-ﾓﾌｨｼｬ- Agilent SMC
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加熱脱着装置付

N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ

LC/MS用HPLC

窒素ｶﾞｽ発生器

窒素ｶﾞｽ発生装置

ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)

nano-LCｼｽﾃﾑ

臭い嗅ぎ装置

ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ

窒素発生装置　(50Hz用)
△ 管理番号 SB0181 SB0223 024863 SB0278 CR0068 020065 026303 SB0216 027359 SB0224
△ 製 品 名 加熱脱着装置付 N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ LC/MS用HPLC 窒素ｶﾞｽ発生器 窒素ｶﾞｽ発生装置 ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用) nano-LCｼｽﾃﾑ 臭い嗅ぎ装置 ｼﾘﾝｼﾞﾎﾟﾝﾌﾟ 窒素発生装置　(50Hz用)
▼ 型    番 JTD-505Ⅲ KZA1S-1565C LC-20ADxrｼﾘ-ｽﾞ N2ｽ-ﾊﾟ-20E NGS-40 NRVP-Box-GWT Nsno-LC-ULTRA　1Dplus+AS付 ODP2 PHD2000 PNG-07
△ メーカー 日本分析工業 --- 島津製作所 ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ 十慈ﾌｨ-ﾙﾄﾞ MS　Noise ABSciex ｹﾞｽﾃﾙ HARVARD (株)ｴｱﾃｯｸ
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LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ

窒素発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)

ｲｵﾝ源　DART

窒素発生装置　(50Hz)

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

吸気ﾏｳｽ質量分析装置

ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ

N2/Zero　Air発生装置(60hz)

LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ
△ 管理番号 SB0112 017177 SB0239 SB0215 SB0225 SB0244 SB0211 SA0050 SB0227 SB0253
△ 製 品 名 LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ 窒素発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式) ｲｵﾝ源　DART 窒素発生装置　(50Hz) 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ 吸気ﾏｳｽ質量分析装置 ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ N2/Zero　Air発生装置(60hz) LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ
▼ 型    番 PhotoSpray　Ion　Source SLP-221CD-S4+ｽ-ﾊﾟ-12E SUPPUER-12E-SDA(AB ｻｲｴﾂｸｽ用) SVP-100/TLC-MS用 Supplier12ES TDSｵ-ﾄ WRMS-2000 αHERACLES ﾀｲﾌﾟ-2 ﾅﾉｽﾌﾟﾚｨ-
△ メーカー AB Sciex ｱ-ﾈｽﾄ岩田+ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ionSense ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｹﾞｽﾃﾙ ｳｴｽﾄﾛﾝ ALPHA　MOS KAKEN(AB SCIEX) AB　Sciex
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