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製　品 ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-
メーカー ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-
型　番 Easy Flex 年 式 2009年 月
価　格 お問合せ 参　考 -
仕　様










 








備　考
 
ジャンル [01.ｸﾛﾏﾄ(LC,GC,MS,TOF)] [01-8.MS関係ｱｸｾｻﾘ]　該当：32件
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窒素ｶﾞｽ発生器

ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ

ﾅﾉｽﾌﾟﾚ-

LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式)

窒素発生装置　　(50Hz用)

N2/Zero　Air発生装置(60hz)

窒素発生装置　(50Hz)

窒素発生装置　(50Hz用)
▲ 管理番号 SB0278 SB0267 SB0264 SB0253 SB0244 SB0239 SB0228 SB0227 SB0225 SB0224
△ 製 品 名 窒素ｶﾞｽ発生器 ｵﾝﾗｲﾝ除蛋白前処理ｼｽﾃﾑ ﾅﾉｽﾌﾟﾚ- LC/MSMS用ﾅﾉｽﾌﾟﾚｲ 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ 窒素ｶﾞｽ発生装置(分離膜式) 窒素発生装置　　(50Hz用) N2/Zero　Air発生装置(60hz) 窒素発生装置　(50Hz) 窒素発生装置　(50Hz用)
△ 型    番 N2ｽ-ﾊﾟ-20E Cohesive TLX-2(高圧対応ﾎﾟﾝﾌﾟ+CTCPALｻﾝﾌﾟﾗ) Easy Flex ﾅﾉｽﾌﾟﾚｨ- TDSｵ-ﾄ SUPPUER-12E-SDA(AB ｻｲｴﾂｸｽ用) AT-10NP-CS ﾀｲﾌﾟ-2 Supplier12ES PNG-07
△ メーカー ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｻ-ﾓﾌｨｼｬ-(AFFINITI Analytical) ｻ-ﾓﾌｨｼｬ- AB　Sciex ｹﾞｽﾃﾙ ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ ｴｱ-ﾃｯｸ KAKEN(AB SCIEX) ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ (株)ｴｱﾃｯｸ
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N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ

ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ-

HPLC(LC/MS前処理用)

HPLC (LC/MS用前処理用)

臭い嗅ぎ装置

ｲｵﾝ源　DART

ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ

吸気ﾏｳｽ質量分析装置

窒素発生装置

加熱脱着装置付
▲ 管理番号 SB0223 SB0220 SB0218 SB0217 SB0216 SB0215 SB0213 SB0211 SB0194 SB0181
△ 製 品 名 N2/Zero/AIRｼﾞｪﾈ-ﾀ ｴｱ-ﾄﾞﾗｲﾔ- HPLC(LC/MS前処理用) HPLC (LC/MS用前処理用) 臭い嗅ぎ装置 ｲｵﾝ源　DART ﾊﾟ-ｼﾞ&ﾄﾗｯﾌﾟ 吸気ﾏｳｽ質量分析装置 窒素発生装置 加熱脱着装置付
△ 型    番 KZA1S-1565C IDF1E-10 2790 2795 ODP2 SVP-100/TLC-MS用 AQUA　PT-5000J WRMS-2000 AT-10NP-CSH JTD-505Ⅲ
△ メーカー --- SMC waters Waters ｹﾞｽﾃﾙ ionSense GLｻｲｴﾝｽ ｳｴｽﾄﾛﾝ ｴｱ-ﾃｯｸ 日本分析工業
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LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ

窒素ｶﾞｽ発生器

窒素ｶﾞｽ発生器

加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ

ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

窒素ｶﾞｽ発生装置

nano-LCｼｽﾃﾑ

LC/MS用HPLC
▲ 管理番号 SB0112 SB0076 SB0074 SB0046 SA0050 CR0068 027993 027991 026303 024863
△ 製 品 名 LC/MSMS用ｲｵﾝｿ-ｽ 窒素ｶﾞｽ発生器 窒素ｶﾞｽ発生器 加熱脱着導入ｼｽﾃﾑ ﾌﾗｯｼｭGCﾉ-ｽﾞ 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 窒素ｶﾞｽ発生装置 nano-LCｼｽﾃﾑ LC/MS用HPLC
△ 型    番 PhotoSpray　Ion　Source 12ES AKA-1003 GERSTEL　TDS αHERACLES NGS-40 AT-20NP-60CSL AT-20NP-60CSL Nsno-LC-ULTRA　1Dplus+AS付 LC-20ADxrｼﾘ-ｽﾞ
△ メーカー AB Sciex SIC ABI(ｱﾉ-ﾊﾞ工業) Agilent ALPHA　MOS 十慈ﾌｨ-ﾙﾄﾞ ｴｱ-ﾃｯｸ ｴｱ-ﾃｯｸ ABSciex 島津製作所
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ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用)

窒素発生装置

  
▲ 管理番号 020065 017177
△ 製 品 名 ｴﾝｸﾛ-ｼﾞｬ-(真空ﾎﾟﾝﾌﾟ用) 窒素発生装置
△ 型    番 NRVP-Box-GWT SLP-221CD-S4+ｽ-ﾊﾟ-12E
△ メーカー MS　Noise ｱ-ﾈｽﾄ岩田+ｼｽﾃﾑｲﾝｽﾙﾒﾝﾄ
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